マサチューセッツ州ビバリー, 2024年6月17日 /PRNewswire/ -- 半導体業界向けのイオン注入ソリューションのトップメーカー、Axcelis Technologies, Inc.（米Nasdaq：ACLS）は、同社のPurion EXE™ SiC高エネルギー注入装置およびPurion H200 SiC中エネルギー注入装置を日本の大手パワーデバイスチップメーカーに向けて出荷したことを発表しました。これらのイオン注入装置は、自動車、工業、エネルギー、その他の電力集約型アプリケーション向けの150mmまたは200mmシリコンカーバイドパワーデバイスの製造に使用されます。
マーケティング＆アプリケーション担当上級副社長のグレッグ・レディンボは、次のように述べています。「Purion H200高電流装置は、日本の大手200mm SiCパワーデバイスメーカーが製造に使用しているPurion EXE高エネルギー装置と協働するものです。日本の新規150mmメーカーに向けたPurion EXE SiCの新たな出荷は、最新のSiCパワーデバイスにおける高エネルギーのイオン注入法への顧客の要求の更なる高まりを示しています。その要求を実現するのがPurion Power Seriesです。」
社長兼CEOであるRussell Lowは次のように述べています。「我々は、日本における顧客基盤の拡大を推進していきたいと考えています。また、お客様の成功を確かなものとするために、最も革新的な注入技術とサポートソリューションを提供することで、市場シェアの拡大に引き続き注力していきます。Purion Power Seriesは、パワーデバイスアプリケーションを実現する高度に差別化された機能とプロセス制御能力によって、市場をリードしています。アクセリスは、あらゆるパワーデバイスアプリケーションに対して完全なレシピを提供できる唯一のイオン注入装置メーカーです。」
アクセリスについて：マサチューセッツ州ビバリーに本社を置くアクセリス（Nasdaq：ACLS）は、45年以上にわたり半導体業界に革新的で生産性の高いソリューションを提供してきました。アクセリスは、IC製造プロセスにおいて最も重要で不可欠な工程の一つである、イオン注入システムの設計、製造、および完全なライフサイクルサポートを通じて、最適なプロセスアプリケーションを実現する開発に従事しています。アクセリスの詳細については、www.axcelis.comをご覧ください。
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