SiCウエハー製造のための完全なソリューション
東京--(BUSINESS WIRE)--（ビジネスワイヤ） -- 工場制御技術企業のナノトロニクスは本日、当社の最新フォトルミネッセンス検査システムとなるnSpec PRISMを発表しました。この製品がナノトロニクスの一連の製品に加わることで、当社は研磨前のSiC基板からエピタキシャル成長やデバイス製造まで、SiC前工程ウエハー製造のための完全なソリューションを提供することができ、KOHエッチングなどの破壊検査法の必要性をなくします。本システムは透過方式と偏光観察方式の組み合わせという点で独自性があり、マイクロパイプや転移など、SiCのキラー欠陥の大規模検査が可能です。
当社は今回の発表を、電子機器製造サプライチェーンのあらゆる段階における最新の技術革新成果を紹介する一流の国際展示会であるセミコン・ジャパンで行いました。
自動光学検査システムの垂直統合メーカーであるナノトロニクスのシステムは、nSpec PRISMの投入により、一層充実したものになります。この新しいプラットフォームに導入した新しい光源により、ナノトロニクスはサンプルプレーンにさらなるパワーをもたらすことができます。この光源により、事業者は、検査工程では明視野方式、透過方式、暗視野方式、ノマルスキーDIC（微分干渉顕微鏡）方式など既存の観察手法を活用しながら、UV／IR照射方式も追加できます。
製品担当ディレクター（アジア太平洋地域）のヤコブ・キースは、次のように語っています。「私たちは、世界中の既存の顧客基盤と拡大中の顧客基盤にnSpecPRISMを紹介できることを大変うれしく思います。このカスタム光源は当社のモジュール式設計における極めて重要な構成要素であり、これによりお客さまは欠陥の検出・分類能力を工場内で直接的に拡充できます。さらに、このように当社の光源を設計・製造することで、当社は世界的なサプライチェーン圧力を低減して、当社が実現している効率的なリードタイムやサポート時間を維持することができます。」
このnSpec PRISMシステムをナノトロニクスの既存AIインフラであるnTelligenceと組み合わせることで、SiCエピタキシャルウエハー上の積層欠陥や三角欠陥、その他の注目すべき欠陥に加え、GaNのクラックやスリップラインを検出・分類できます。
**ナノトロニクスは12月14日（水）～12月16日（金）に開催されるセミコン・ジャパンに出展し、アミリアジャパン株式会社の5820番ブースにて、このシステムのオンサイトデモを行います。**
ナノトロニクスについて
ナノトロニクスは、先進的な機械とインテリジェンスを提供し、官民および非営利のセクターが精密製造の検査・プロセス制御に特有の課題を解決できるように支援しています。
半導体業界向け光学検査ツールの大手開発企業であるナノトロニクスは、ハードウエアとソフトウエアを使用して、産業規模の高スループットの超イメージングシステムを提供しています。ナノトロニクスの製品は業界を問わず世界15カ国で導入されており、当社は航空宇宙からエレクトロニクス、ヘルスケアまで、資本集約型の業界と連携して、歩留まりの向上、フットプリントと無駄の削減、コスト低減、反復的な設計の迅速化を行うと同時に、労力を要する手作業の検査を排除しています。
詳しい情報については、https://nanotronics.coをご覧ください。
ナノトロニクスと提携して御社の製造設備にAIPC™を導入する方法の詳細については、sales@nanotronics.coまでご連絡ください。
本記者発表文の公式バージョンはオリジナル言語版です。翻訳言語版は、読者の便宜を図る目的で提供されたものであり、法的効力を持ちません。翻訳言語版を資料としてご利用になる際には、法的効力を有する唯一のバージョンであるオリジナル言語版と照らし合わせて頂くようお願い致します。
Contacts
For press inquiries, please contact Jack Kerwin, Director of Strategy and Business Development. jkerwin@nanotronics.co or press@nanotronics.co.
