韓国で半導体関連の核心技術を中国に流出しようとした一味が摘発された。大企業職員も含まれていた。
（参考記事：韓国経済紙「営業秘密流出で韓国は年間5.6兆円の損害」「無罪率高く…命を絶つ例も」）
大田（テジョン）地検は「半導体ウエハ研磨（ＣＭＰ）」関連技術を中国に流出しようとした韓国半導体メーカー社員３人を含む計６人を産業技術保護法違反、不正競争防止法違反（営業秘密国外漏洩）、業務上背任容疑で起訴したと２６日明らかにした。韓国特許庁も記者会見でこれを明らかにした。
被疑者が流出しようとしたＣＭＰ関連技術は「ウエハ研磨工程（ＣＭＰ工程）」と「ウエハ研磨剤（ＣＭＰスラリー）」、「ウエハ研磨パッド（ＣＭＰパッド）」だ。
ＣＭＰ工程は技術的・経済的価値が高く、海外に流出すれば国家の安全保障と国民経済発展に悪影響を及ぼすこと可能性があることから、韓国の産業技術保護法上「国家核心技術」・「先端技術」に指定されている。
被疑者は韓国の半導体プロセス素材メーカーＡ社・Ｂ社と同メモリ半導体メーカーＣ社で勤務し、中国半導体メーカーに移籍した職員たちだった。 彼らは２０１９年から共謀し、コンピュータと業務用携帯電話で会社内部ネットワークに接続し、機密資料を写真撮影する手法で核心技術を流出させたという。
被疑者は有価証券市場とコスダックに上場した韓国企業Ａ・Ｂ・Ｃ社に在職したのち、同じ中国企業に移した。 主犯とされるＤ（５５）氏はＡ社で２０１８年に役員昇進レースで脱落するや、２０２０年１月までＡ社に勤務し続け、関連技術を中国企業に送り、同年５月からは中国企業の子会社社長級に移転した。
Ｄ氏は技術流出に対する捜査が開始されたことを認知し、共犯の中国企業副社長級人事Ｅ（５２）氏にＡ社から流出した資料を隠してほしいと頼み証拠隠蔽を試みた。 Ｅ氏は韓国半導体企業Ｃ社のＣＭＰスラリー関連資料を中国企業に渡した人物だ。
このほかにも、被告人はＢ社でＣＭＰスラリー事業計画ファイルを中国企業職員に渡したり、ＣＭＰプロセス関連のセキュリティ資料を撮影してＤ氏に渡したりする方法で犯行を行った。核心技術流出による被害額は、Ｂ社の場合、研究開発費だけで４２０億ウォン（約４４億円）に達する。 ＣＭＰスラリー市場規模が昨年基準で年間２兆７５００億ウォン（約２８８６億円）、ＣＭＰパッドは年間１兆５８００億ウォン（約１６５８億円）である点を考慮すると損失規模は小さくないとみられる。
技術流出捜査では特許庁と検察、国家情報院など各機関の協力が功を奏したた。 国家情報院機密保護センターが中国で情報を得て、検察と特許庁技術警察が捜査に着手した。 検察と技術警察は被疑者が中国から帰国した直後、すぐに押収捜索を執行して証拠を分析した。 特許庁技術警察は被疑者のうち３人を拘束送致して検察に引き渡したが、これは技術警察が２０１９年３月に営業秘密分野の捜査を引き受けて以来初めて拘束送致した事例だ。
特許庁は技術警察と大田地検、国家情報院などの技術犯罪捜査機関と緊密に協力し、今後米国国土安保捜査局（ＨＳＩ）とも協力体系を設け、国際技術犯罪に対する対応を強化する計画だ。
（参考記事：韓国貿易協会「水素技術の国際特許、欧州が２８％、日本が２４％保有」「韓国は初期段階」）
（参考記事：サムスン幹部「シャープは良質特許を多数保有するも活用できず、うちに負けた」）
（参考記事：韓国紙「中国が作ったエクアドルの水力発電所、技術不足で崩壊危機」 韓国もラオスでダム崩壊過去）
（参考記事：量子暗号分野の特許数で韓国は世界４位…１０年で２倍に急増 日本は世界２位も減少傾向）
（参考記事：米特許取得件数で韓国サムスンが１位…ＩＢＭは２位に陥落 日本勢はトヨタが４位で最高位）
（参考記事：韓国の国策研究機関「日本の半導体素材は世界最高の技術力と独占構造」「韓国はまだ依存する必要が」）
